光催化除臭設(shè)備有哪些***點(diǎn)






光催化除臭設(shè)備具有多項(xiàng)顯著***點(diǎn)，以下是對(duì)這些***點(diǎn)的詳細(xì)闡述：

 

1. 高效除惡臭：光催化除臭設(shè)備對(duì)揮發(fā)性有機(jī)物（VOC）、無(wú)機(jī)物、硫化氫、氨氣、硫醇類等主要污染物以及各種惡臭味，去除效率非常高，凈化、脫臭效果******超過1993年頒布的惡臭污染物排放標(biāo)準(zhǔn)（GB1455493）。

 

2. 無(wú)需預(yù)處理：工業(yè)廢氣無(wú)需進(jìn)行***殊的預(yù)處理，如加溫、加濕等，設(shè)備工作環(huán)境溫度在攝氏30°C至95°C之間均可正常工作。

 

3. 適應(yīng)性強(qiáng)：可適應(yīng)高濃度、***氣量的不同工業(yè)廢氣物質(zhì)的凈化處理，并且可以每天24小時(shí)連續(xù)工作，運(yùn)行穩(wěn)定可靠。

 

4. 運(yùn)行成本低：該設(shè)備無(wú)任何機(jī)械動(dòng)作，無(wú)噪音，無(wú)需專人管理和日常維護(hù)，只需作定期檢查。同時(shí)，設(shè)備能耗低，可節(jié)約***量排風(fēng)動(dòng)力能耗。

 

5. ***質(zhì)材料制造：通常采用***質(zhì)進(jìn)口材料制造，具有防水、防火、防爆、防腐蝕等***點(diǎn)，使用壽命長(zhǎng)。

 

6. 科技含量高：光催化除臭設(shè)備采用先進(jìn)的高級(jí)氧化技術(shù)，突破單一體系的反應(yīng)局限，在整個(gè)反應(yīng)體系中有兩種氧化能力極強(qiáng)的氧化劑—O3和羥基OH參與反應(yīng)，使得脫臭效果更佳，惡臭氣體礦化程度更高，可無(wú)害化排放，無(wú)二次污染。

 

7. 占地面積?。合鄬?duì)于其他除臭設(shè)備，光催化除臭設(shè)備占地面積小，自重輕，適用于場(chǎng)地狹小的場(chǎng)所。

綜上所述，光催化除臭設(shè)備以其高效的除惡臭能力、廣泛的適應(yīng)性、無(wú)需預(yù)處理、運(yùn)行成本低、***質(zhì)材料制造、科技含量高以及占地面積小等***點(diǎn)，在工業(yè)生產(chǎn)中得到了廣泛應(yīng)用。這些***點(diǎn)使得光催化除臭設(shè)備成為處理工業(yè)廢氣、改善工作環(huán)境質(zhì)量的理想選擇。